当光通过两种介质传播时,由于不同介质的折射系数不同,在临界面,部分会被反射,部分则发生折射、透过。光的反射与折射比率因两种介质的折射系数、入射光的偏正及入射角等的情况不同而异。
根据折射比率因菲涅尔定律(FRESNEL' LAW),可以得知，入射光由两个平面的偏正光束叠加形成，分别为P偏正光及S偏正光。由P偏正光产生的电场平行于入射平面,S偏正光产生的电场则垂直于入射平面。菲涅尔定律可以归纳为以下两个公式：
 
当反射光与折射光相互垂直时，S偏正光全部被反射。这个角度称为布鲁斯特角(Brewster)。
应用光学镀膜能改变光的反射、透过、吸收或光学元件的偏正性能。不镀膜的元件通常称为基底。在高真空环境中,通过使用电子枪或离子辅助成膜工艺使膜料蒸发,实现镀膜。膜料有金属,如金、铝、银、铬，也有半导体，如硅、锗等。
光学干涉膜对S偏正光和P偏正光产生的影响不同。基于此,当入射角超过20度时,须对S偏正或P偏正或任意偏正作出明确说明,这点至关重要。
定义
R0：中心波长的反射 Rs：S平面偏正光的反射 Rp：P平面偏正光的反射
Ts：S平面偏正光的透过
Tp：P平面偏正光的透过
R：任意偏正光的反射
T：任意偏正光的透过
浩蓝能提供各种增透膜,高反膜及部分反射膜等镀膜服务。多层介质膜通过交替使用高折射率和低折射率的膜料叠加来实现。为满足对光的不同需求，如反射与透射的比率,吸收入射角度和偏正情况,设计膜层时要考虑其厚度。我们使用光学监控技术及镀膜机的计算机自动化控制,能确保为您提供精确的镀膜。
浩蓝能提供的镀膜各种各样,包括单层增透及多层介质等等。常规的介质膜有宽带增透膜,V形膜及双波长增透膜等。在光波分复用中所使用的透过/截止滤光片也可以提供。
如果以上的镀膜无法满足您的需求,请随时联系我们,我们将专门为您的特殊应用设计镀膜。
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